科研型真空式等離子處理設(shè)備主要為科研實驗室、產(chǎn)品研發(fā)等過程中的驗證型設(shè)備，設(shè)備應(yīng)用了高真空下輝光放電原理，在高頻的電場下，使得特殊的氣體充能電離，形成密布均勻的等離子體，與待處理材料的表面發(fā)生物理性及化學(xué)性的綜合反應(yīng)，得到我們所需要的表面效果狀態(tài)科研型真空等離子處理設(shè)備主要有以下特點

1、采用超高頻、全自動阻抗放電匹配系統(tǒng)的優(yōu)質(zhì)等離子發(fā)生源，為等離子體的形成及穩(wěn)定提高可靠的環(huán)境高效的能量;

2、工業(yè) PLC 及觸摸屏聯(lián)合控制系統(tǒng),搭配各種傳感器及信號互聯(lián)電氣元件，實現(xiàn)了一鍵式全自動處理系統(tǒng)，高精度控制設(shè)備運行的全過程細(xì)節(jié)和參數(shù);

3、多路氣體通道的高精度氣體質(zhì)量流量控制器可以實現(xiàn)各種特種氣體的定量輸入，為科研實驗過程的數(shù)據(jù)嚴(yán)謹(jǐn)性提供有效保障;

4、等離子處理設(shè)備為自主研發(fā)設(shè)計，可以根據(jù)客戶的實際需求及產(chǎn)品的特殊性能進(jìn)行匹配性的定制設(shè)計，包括設(shè)備外形、腔體材質(zhì)及尺寸、腔體形征、電源種類、控制形式等，提升設(shè)備應(yīng)用范圍和使用功效

5、小型真空式等離子處理設(shè)備可以實現(xiàn)材料表面的去膠刻蝕、清潔活化、改性、退膜、涂層、金屬還原等效果，滿足產(chǎn)品研發(fā)制造過程中的各類表面特性研究和工藝優(yōu)化提升。

1、科研實驗室材料表面的改性:如礦物質(zhì)表面微量氧化層的處理，石墨粉表面的親水性提升，復(fù)合高分子材料(PP、PA、PE、ABS、PTFE等)的表面處理，提升表面粘接力。

2、晶圓光刻膠的去膠刻蝕

3、金屬等材料表面的還原和氧化性反應(yīng)實驗。

4、醫(yī)療材料的表面親水性提升，增強表面涂層結(jié)合力。

5、其他各類材料表面的特性改變及附著力提升等應(yīng)用。